有助於應對氣候變化的ALD技術

具有高性能的鋰離子電池材料

Picosun的原子層沉積(ALD)薄膜阻隔塗層技術為消除使用有害工藝氣體,六氟化硫(SF 6)和三氟化氮(NF 3)提供了解決方案。
在當前的化學氣相沉積(CVD)塗覆方法中,需要生長相對厚的膜以獲得期望的性能水平,以達到例如防潮,防腐蝕,鈍化或絕緣應用中的所需規格。由於塗層設備壁上的薄膜快速堆積,必須定期清潔沉積室中的薄膜殘留物。這通常是通過使用SF 6或NF 3等離子體的腔室清潔工藝完成的。