產品資訊(第1頁列表) - 新元鋒精密股份有限公司

製程設備

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SENTECH SI 500 ALE 原子層蝕刻系統 (Atomic Layer...

本系統是高階電漿製程的革命性延伸，專注於提供穩定的低壓低功率電漿環境。結合專利平面三螺旋天線（PTSA）技術、動態基台控溫與背面氦氣冷卻，實現在超低離子能量下的數位化週期性蝕刻。支...
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SENTECH SI 500 ICP-RIE 電漿蝕刻系統(含 Cryo / D...

PTSA-ICP 電漿源的高階蝕刻平台:低損傷、高深寬比、高蝕速。可擴充低溫(Cryo)、DRIE 深矽蝕刻、ALE 原子層蝕刻;另有緊湊型 RIE(SI 591、Etchlab ...
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SENTECH SI PEALD 電漿增強原子層沉積系統

SI PEALD 為高性能電漿增強原子層沉積系統，採用真正遠端電漿源技術，可在低於 100°C 的條件下實現高均勻性與高順形性的薄膜沉積。系統適用於敏感基材與複雜3D結構，並支援 ...
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Theris NanoShell 奈米粒子殼層鍍膜模組

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Theris 超高真空奈米粒子沉積PVD設備

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Theris TAS-RF原子源超高真空奈米粒子沉積模組

無離子的氧化物和氮化物沉積

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Theris NanoStream 超高真空奈米粒子沉積模組

這個NanoStream源範圍使用改良的直流濺射源來從金屬靶材（如銅盤）產生蒸氣。通過精心控制源頭的壓力、等離子體溫度和氣體混合物的流量，蒸氣會凝結成納米粒子，就像雲中的水滴形成一...
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Korvus HEX 三合一桌上型PVD系統

HEX系列體積小巧且靈活度高，使用者可以完全自由的組裝及配置設備，以滿足當前的實驗需求或未來的方向變化。
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真空電漿 TEM清洗系統

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量產型 Nebula系列真空電漿表面處理系統

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噴炬型 Cirrus & Nimbus 大氣電漿表面處理設備

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桌上型 HPT系列真空電漿表面處理系統

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