Henniker Plasma

電漿表面處理簡述

首先,我們先來定義何謂「電漿」。固體、液體、氣體是我們都熟悉的物質三態。我們可以通過增加或減少能量(如:加熱或冷卻)來調整物質狀態。 若繼續增能量,氣體分子會被電離(失去一個或多個電子),並帶淨正電荷。 如果被電離的分子達一定數量進而影響氣體電氣特性,則即為電漿。 因此,電漿通常被稱為物質的第四態。

電漿處理可用於多種材料表面特性改質,使它們更容易結合、黏合和上漆,通過清潔及活化表面來改善表面的粘附特性。

電漿包含正離子、電子、中性氣體原子或分子、紫外線以及激發態氣體原子和分子,它們可以攜帶大量內能(電漿會發光是因為這些激發態中性粒子弛豫到能量較低的狀態)。在電漿處理過程中,所有成分都可以與表面作用。我們可以透過選擇氣體混合物、功率、壓力等因素,精確地調整或設定電漿處理的效果。

下方影片將介紹何謂電漿處理技術及其功用:

日常生活中常見的電漿:

• 螢光燈

• 霓虹燈

• 電漿電視

 

電漿處理的常見工業用途、材料及應用:

航太

汽車

隱形眼鏡和光學元件

過濾介質

醫療

顯微鏡

PCB/電子組裝

O型環

塑膠/會員卡

影印

學術研究

紡織品

 

電漿處理最常用的材料:

塑料,包括 PEEK、PTFE、聚丙烯、聚乙烯

複合材料

工程聚合物

微流體PDMS

玻璃、金屬和陶瓷

 

電漿處理的常見用途:

電漿表面清洗

電漿表面活化以提高附著力

• 電漿塗佈 (親水&疏水)

• 電漿蝕刻