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Nanoquest I 離子束蝕刻系統是蝕刻單晶片基板的理想平台，直徑可達4英寸（特殊配置和性能可擴展至5英寸）。配置高冷卻流量基板台，系統可以穿透光阻或其他遮罩，在任何材料上製作有圖案的基板。該系統採用緊湊一體化框架設計，帶有內置的電子設備機架，以最小化實驗室或無塵室空間。高真空設計原則確保快速循環時間和低終極壓力性能。超高純氣體分配確保離子源操作穩定。Nanoquest I 系統採用不銹鋼框架，帶有內置的儀器機架，內置一個觸摸屏 LabView 介面到 PLC 控制器。完全自動化；抽真空、氣體流量控制和離子源操作，為您的基板提供可重複和可靠的蝕刻。
Nanoquest I-LL（裝載鎖）
Nanoquest I-LL（裝載鎖）系統使用磁耦合旋轉線性驅動器安全地將安裝在載具平板上的晶片運送到蝕刻室。裝載鎖使用戶可以實現更快的蝕刻周轉時間、更高的運行到運行的重複性，並減少顆粒的產生。在超高真空設計中，水蒸氣幾乎被消除，同時也消除了工藝漂移。
水冷載台
腔室是一個直徑20英寸的超高真空設計組件。基板台安裝在門上，並以不同的角度和旋轉速度將基板呈現給離子源。電動可變角度台具有旋轉和溫度控制功能。
多功能選配
該系統可以配置為離子束濺射或電子束蒸發，或者兩者兼而有之。Nanoquest I 適用於斜視角度沉積（GLAD）以製造有效介質材料。與Intlvac談談購買專用系統或升級到 GLAD 階段。
優勢
● 佔地面積小，適用於無塵室操作
● 裝載鎖腔室實現更快的蝕刻周轉時間
● 自動化電腦控制功能實現全系統管理
● 台階提供可變角度和速度
● 多個觀察窗口，實現完整的過程觀察
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