Nanoquest III/IV 批量離子束蝕刻系統是市場上最經濟、最多功能的生產型離子束蝕刻系統之一。該系統允許自動精確控制離子束能量和蝕刻角度。設計為生產型蝕刻工具，Nanoquest III/IV 能夠執行從簡單的惰性蝕刻到複雜的反應性操作的各種工藝。使用5個中空軸旋轉驅動器使水冷卻直接位於雙旋轉晶圓行星的下方。Nanoquest III/IV 系統將水冷卻的雙軸台階與來自RF離子源的22厘米離子束和用於終點檢測的次級離子質譜儀相結合。系統操作和顯示通過Intlvac運行在LabVIEW下的圖形顯示。
Intlvac 離子束蝕刻
Nanoquest III/IV 12吋離子束蝕刻設備-高準直性
Nanoquest III/IV 設計用於蝕刻直徑300毫米及以下的基板。它配備了射頻寬束離子源，可對任何材料進行乾式等離子蝕刻。它可以配置為單晶片旋轉或高通量的雙旋轉行星...
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