Henniker Plasma · Technology Update
Henniker Plasma 推出 CoatX® 先進功能性電漿鍍層技術
CoatX® 平台擴展電漿鍍層與表面工程能力，支援研究與工業應用情境；新元鋒精密提供在地技術支援與導入服務。
Henniker Plasma 近期發布 CoatX® Advanced Coating Technology， 以可控電漿沉積方式在多種基材上形成高附著力、均勻且可調特性的功能性鍍層， 進一步提升先進材料表面處理的彈性與可重複性。
高均勻性薄膜沉積
針對功能性鍍層需求，提升膜層一致性與製程可控性。
高附著力與耐久性
著重鍍層與基材結合品質，適用於研發驗證與實務導入。
低溫製程能力
對溫度敏感材料更友善，提供更廣的材料選擇空間。
研究到量產的銜接
可依需求規劃試做、參數窗口與導入流程，降低轉移成本。
應用方向
- 功能性保護層、耐磨 / 抗腐蝕塗層
- 生醫材料表面改質與高值化處理
- 光電與電子元件相關薄膜應用
需要在地技術支援或樣品評估？
新元鋒精密可提供製程討論、樣品測試 / 代工、設備導入與教育訓練，以及售後支援。