產品資訊(第1頁列表) - 新元鋒精密股份有限公司

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SENTECH SI 500 ALE 原子層蝕刻系統 (Atomic Layer...

本系統是高階電漿製程的革命性延伸，專注於提供穩定的低壓低功率電漿環境。結合專利平面三螺旋天線（PTSA）技術、動態基台控溫與背面氦氣冷卻，實現在超低離子能量下的數位化週期性蝕刻。支...
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SI 500 ICP-RIE 電漿蝕刻系統(含 Cryo / DRIE / AL...

PTSA-ICP 電漿源的高階蝕刻平台:低損傷、高深寬比、高蝕速。可擴充低溫(Cryo)、DRIE 深矽蝕刻、ALE 原子層蝕刻;另有緊湊型 RIE(SI 591、Etchlab ...
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SENTECH SI PEALD 電漿增強原子層沉積系統

SI PEALD 為高性能電漿增強原子層沉積系統，採用真正遠端電漿源技術，可在低於 100°C 的條件下實現高均勻性與高順形性的薄膜沉積。系統適用於敏感基材與複雜3D結構，並支援 ...
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