UniTemp 高真空熱製程
RTP-150 真空爐
詳細介紹

RTP-150 前置式,具有高達每秒75 K升溫速率的快速熱真空處理爐。

產品特色: 

  • 優良的溫度均勻性
  • 精確控制的升溫速率和快速降溫速率
  • 低處理周轉時間
  • 舒適的氣體控制
  • 占地面積小的桌上型系統

帶有前置抽屜的多用途桌面裝置,適用於以下應用:

  • 各種半導體工藝的優秀工具
  • 實施新的半導體工藝
  • 原型研究
  • 質量控制
  • 退火
  • 快速熱處理工藝
  • SiAu,SiAl,SiMo合金化
  • 低k介電材料
  • 離子注入後的退火
  • 銅漿燒結
  • 電阻漿燒結
  • 根據需求的其他工

規格:

  •  石英玻璃室集成氣體入口和出口
  • 加熱方式:紅外線。總功率:21千瓦
  • 頂部和底部加熱
  • 加載系統:在處理腔室的石英玻璃盤
  • 晶圓尺寸:156mm
  • 控制器:快速PID溫度過程控制器
  • 5050段程式
  • SPS控制器
  • 7”觸控式螢幕
  • 真空度:可達10exp.-3 hPa
  • 最高溫度:1000
  • 傾斜上升率:最大75°K/
  • 減速率:T =1000°C400°C以下。 最大200 K /分鐘
  •  T =400100以下。 最大30 K /分鐘
  • 電壓:230V/3N/32A
  • 冷卻系統:水冷式
  •  材積: 505 x 504 x 570 mm (WxHxD)
  • 重量:55 kg