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SENTECH SI PEALD 電漿增強原子層沉積系統
SI PEALD 為高性能電漿增強原子層沉積系統，採用真正遠端電漿源技術，可在低於 100°C 的條件下實現高均勻性與高順形性的薄膜沉積。系統適用於敏感基材與複雜3D結構，並支援 ...
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