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2026-05-08
Sentech 原子層沉積系統|PEALD 與 ICPEAL...
SENTECH 原子層沉積系統結合 ALD 的精準度與電漿的高反應性,可在低溫下...
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2026-03-16
Sentech 電漿蝕刻技術解析：RIE、ICP-RIE、D...
電漿蝕刻（Plasma Etching）是半導體與奈米製造中不可或缺的乾式製程技...
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2025-06-07
Sentech SI 500 ICP-RIE 技術突破：實現...
SENTECH SI 500 採用創新 PTSA 200 ICP 電漿源，於 S...
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