產品資訊(第1頁列表) - 新元鋒精密股份有限公司

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SENresearch 4.0 光譜橢圓偏振儀

涵蓋 190 nm 至 3,500 nm 極寬光譜範圍，採用創新 SSA 步進掃描技術（無移動部件）與快速 FTIR 橢圓偏振儀設計，可精準量測高達 200 µm 的厚膜與全穆勒矩...
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SENTECH SI 500 ALE 原子層蝕刻系統 (Atomic Layer...

本系統是高階電漿製程的革命性延伸，專注於提供穩定的低壓低功率電漿環境。結合專利平面三螺旋天線（PTSA）技術、動態基台控溫與背面氦氣冷卻，實現在超低離子能量下的數位化週期性蝕刻。支...
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SENTECH SI 500 ICP-RIE 電漿蝕刻系統(含 Cryo / D...

PTSA-ICP 電漿源的高階蝕刻平台:低損傷、高深寬比、高蝕速。可擴充低溫(Cryo)、DRIE 深矽蝕刻、ALE 原子層蝕刻;另有緊湊型 RIE(SI 591、Etchlab ...
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SENTECH SI PEALD 電漿增強原子層沉積系統

SI PEALD 為高性能電漿增強原子層沉積系統，採用真正遠端電漿源技術，可在低於 100°C 的條件下實現高均勻性與高順形性的薄膜沉積。系統適用於敏感基材與複雜3D結構，並支援 ...
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SURAGUS EddyCus® lab 2020 TM

EddyCus® lab 2020 TM 為德國 SURAGUS 推出的桌上型非接觸式量測設備，採用高精度渦電流技術，專為導電薄膜方塊電阻與金屬層厚度單點量測而設計。

本系統...
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Attolight Allalin CL System

Allalin 為 Attolight 推出的晶圓級 Cathodoluminescence（CL）分析系統，整合 SEM 與高效率光學模組，可進行 CW-CL、TR-CL 與量子...
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PTC 574CM 表面溫度檢測貼

PTC 574CM 為被動式表面溫度檢測貼，量測範圍 10–260°C，無需電源即可快速顯示溫度，具備強力磁鐵與彈簧夾設計，適用於工業設備、管線與實驗室環境之即時溫度確認。
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Theris NanoShell 奈米粒子殼層鍍膜模組

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Theris 超高真空奈米粒子沉積PVD設備

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Theris TAS-RF原子源超高真空奈米粒子沉積模組

無離子的氧化物和氮化物沉積

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Theris NanoStream 超高真空奈米粒子沉積模組

這個NanoStream源範圍使用改良的直流濺射源來從金屬靶材（如銅盤）產生蒸氣。通過精心控制源頭的壓力、等離子體溫度和氣體混合物的流量，蒸氣會凝結成納米粒子，就像雲中的水滴形成一...
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XVA-160αⅡ”Z” 高解析度3D X-ray CT (斷層掃描)

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